镜面抛光分为机械镜面抛光和化学溶液镜面抛光。机械镜面抛光是对金属材料 (粗磨、细磨) 和抛光过程进行抛光的过程, 实现表面光滑、闪亮、镜面般的表面。化学溶液镜面抛光是利用化学溶液浸泡, 去除表面氧化物, 达到明亮的效果。机械镜面抛光是对金属材料进行抛光 (粗磨、细磨) 和抛光 (WENDT 三步抛光) 的过程, 以实现光滑、闪亮、镜面状的表面。
I. 抛光工艺
抛光的目的是获得光滑的表面。此时, 磨面上仍有非常精细、均匀的磨损痕迹。磨削分为粗磨和细磨两种。
1. 粗糙磨削: 粗糙研磨是将粗糙的表面和不规则的形状整整齐齐。
2. 精磨: 粗加工后的金属表面仍有深磨痕迹, 需要在精磨中消除, 以便进行抛光准备。
二、表面抛光工艺
抛光过程用于获得抛光的、类似镜面的表面。大部分采用抛光轮对表面反复抛光的零件极小的不均匀, 一般涂布表面进行改性。抛光是涂层或零件表面的最后一步。其目的是消除抛光过程后表面留下的细磨痕迹。理想的抛光表面应光滑、明亮、无追溯、天空浮雕, 无凹坑, 无金属层破坏镜面状态。抛光和抛光后表面会发生变化。
喷涂
前置处理
抛光工序